Effect of PECVD Deposition Parameters on the DLC/PLC Composition of a-C:H Thin Films

Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) têm sido depositados na superfície de materiais para melhorar propriedades mecânicas, ópticas e químicas. Nesse estudo, foi empregado o sistema de deposição química assistida por plasma (PECVD) para sintetizar filmes de a-C:H com fases DLC (tipo diamante) e PLC (tipo polimérico). As pressões parciais de acetileno em argônio foram variadas e as estruturas dos produtos analisadas pela técnica de espectroscopia de reflexãoabsorção no infravermelho (IRRAS) e Raman. Além disso, a morfologia e as espessuras dos filmes foram determinadas por microscopia de força atômica (AFM) e perfilometria, respectivamente.